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三菱电机:演示下一代LTE基站高效率、宽带Doherty放大器

来源:新材料在线|

发表时间:2017-01-19

点击:12830


2017年1月16-17日,在美国亚利桑那州凤凰城的Radio&Wireless Week(RWW2017)的#1和#2展位上,三菱电机公司正在展示一款实用的迷你实验室,展示其高效率宽带Doherty放大器。此外,在1月16日上午10时50分,该公司提交了一篇描述宽带Doherty的技术论文(Session MO2D-3: '3.0-3.6GHz Wideband, over 46% Average Efficiency GaN Doherty Power Amplifier with Frequency Dependency Compensating Circuits'),报导了功率放大器设计技术,用于使用在三菱电机最新的氮化镓(GaN)晶体管技术的下一代LTE基站。


为了打破常规Doherty设计方法的固有窄带限制,论文提出了一种频率相关补偿电路和包含晶体管封装寄生元件的改进的四分之一波长反相器。

与早期的设计方法相比,这种紧凑的设计提高了带宽和效率,在整个3.0-3.6GHz频段(20MHz LTE信号)提供超过2.5W的平均功率,效率高于45.9%。这使得能够设计更具竞争力的LTE放大器,能够在这个频带中的载波聚合场景。结合数字预失真(DPD)以维持-50dBc的相邻信道泄漏比(ACLR),使用宽带有效的GaN Doherty设计可以降低无线电的复杂性和能量消耗,进一步降低基站总数。

三菱电机的全系列GaN器件,输出功率范围从2到100W,频率在L-、S-、C-和Ku-波段,支持各种终端通信应用,包括蜂窝基站、卫星、地面站和点对点。

声明:本文由入驻新材料在线作者鹿野道人撰写,观点仅代表作者本人,不代表新材料在线立场。本站只提供参考并不构成任何投资及应用建议。本站拥有对此声明的最终解释权。

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